| 摘要 |
本发明的目的在提供兼备高感度、高显像残膜率及高耐溶剂性，以及高生产性之辐射敏感性树脂组成物。本发明者（们）锐意检讨结果，探明含有特定溶剂之辐射敏感性树脂组成物，兼备高感度、高显像残膜率及高耐溶性，其生产性亦高，导致本发明。本发明提供含有（A）硷可溶性树脂、（B）双辐射线敏感之化合物，及（C）溶剂之辐射敏感性树脂组成物；其溶剂中质量百分率16％以上是α—羟基异丁酸酯类之辐射敏感性树脂组成物。并提供透明膜制造方法，即涂布本组成物于基板或基板上形成之固体着色辐射敏感性树脂组成物层上，自涂布之组成物层除去挥发成分，介由照相图罩使挥发物质去除后之该物层曝光，显像后形成其图形之透明膜。 |
