电阻照射方法

摘要

本发明系关于一种方法，在此方法中，在要被图样化的层(12)的制造后，一种辐射灵敏光阻层排列(10)被制造且被垂直地选择性地图样化，其中该光阻层排列包括如下方光阻层(14)及上方光阻层(18)。此方法使得免除积体电路排列制造的方法步骤成为可能。