| 摘要 |
本案是有关于一种金属图案化方法，其中藉由沉积步骤将其中至少一种腐蚀强烈的金属层沉积在一矽基质上，接着经由使用一光阻的光微影图案化方法在该腐蚀强烈的金属层上产生一蚀刻遮罩，然后经由蚀刻遮罩，以蚀刻法将该金属层图案化，该蚀刻较佳为利用电浆蚀刻。本案系尝试提供一种简化的金属图案化方法，其在蚀刻步骤期间可藉由简单的方法来确保蚀刻的金属结构的充足钝化。根据本案，为达到此目的，一碳层形式的一硬式层首先被沉积在已经被沉积且将被图案化的该金属层上，接着在该硬式层上沉积一光阻，其中在图案化该光阻之后，藉由剥除化来图案化该碳层以形成一碳遮罩，其中定义结构的该碳遮罩接着被用来完成该金属层的金属蚀刻并同时完成侧壁的钝化，以及其中该遮罩接着被剥除。 |
