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发明名称
半导体制造装置用加热模组
摘要
本发明提供一种加热模组、及使用其之半导体制造装置,该等可在不致于造成半导体制造装置之大型化或成本增加下,使加热后之加热部冷却速率比先前显着提高,而有助于生产性之改善提升。本发明之加热模组,具备:加热部1a,其系用以在表面上载置晶圆而加以加热控制;块部3a,其系设成为可对于加热部1a相对移动,用以抵接于加热部1a之背面或与其分离而改变与加热部1a之总计热容量。块部1b之热容量设定为加热部1a与块部1b总计热容量之20%以上,即可使加热部冷却速率达到10℃/分以上。
申请公布号
TW200405445
申请公布日期
2004.04.01
申请号
TW092114738
申请日期
2003.05.30
申请人
住友电气工业股份有限公司
发明人
柊平启;仲田博彦
分类号
H01L21/30
主分类号
H01L21/30
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
日本
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