| 主权项 |
1.一种立体浮雕拼图构造,系包含有:一基板(10)及多数之单元拼块(20)等元件所组成,其基板(10)上设有成型之主题图案轮廓凹穴(11),可拼组入多数块之单元拼块(20)于该凹穴(11)之中,其特征系在于:该等多数之单元拼块(20)其邻靠接面(21)板体可为互相邻合,同时于全周相邻之单元拼块其上曲面(40)接合后曲线(31),于组接呈立体模型后为互相平滑接合之曲线,构成一种全方位性具三D立体浮雕之拼图构造。2.如申请专利范围第1项所述之立体浮雕拼图构造,其中所述于基板(10)上所预设之主题图案之立体浮雕模型,其可为各国之地形地貌图者。3.如申请专利范围第1项所述之立体浮雕拼图构造,其中所述单元拼块(20)其于浮雕表面之上曲面上,设有等高之浮凸注记字体(54),其浮凸注记字体系随高低起伏之浮雕表面同等起伏表现,可标记*行政区域之州名别(41)及州行政中心别(42)者。4.如申请专利范围第1项所述之立体浮雕拼图构造,其中所述于基板上所预设之主题图案之立体模型,其可为呈现出动物造形、建筑物造形、风景主题、交通工具等造形者。5.如申请专利范围第3项所述之立体浮雕拼图构造,其中浮凸注记字体(54)可为凹陷之注记字体(55)者。6.一种立体浮雕拼图构造,系由一基板(50)及多数之单元拼块(52)等元件所组成;其基板(50)上设有多数之凸块(51),各不同凸块(51)之外形相同于其上方欲组入之单元拼块(52)之轮廓,但其凸块(51)大小采等比例缩小,使得于两两凸块(51)之间形成为一沟槽(53),各沟槽(53)之宽距必需恰巧等于其两片单元拼块(52)之壁厚并合后厚度,令拼图上各单元拼块(52)拼合一起时,具有可嵌固于沟槽(53)中;多数之单元拼块(52)其邻靠接面(21)板体可为互相邻合,同时于全周相邻之单元拼块其上曲面(40)接合后曲线(31),于组接呈立体模型后为互相平滑接合之曲线(31),构成一种全方位性具三D立体浮雕之拼图构造。7.如申请专利范围第6项所述之立体浮雕拼图构造,其中所述之单元拼块(52)其于浮雕表面之上曲面上,设有等高之浮凸注记字体(54),其浮凸注记字体系随高低起伏之浮雕表面同等起伏表现者。8.如申请专利范围第7项所述之立体浮雕拼图构造,其中浮凸注记字体(54)可为凹陷注记字体(55)者。9.如申请专利范围第6项所述之立体浮雕拼图构造,其中所述于基板(50)上所预设之主题图案之立体浮雕模型,其可为各国之地形地貌图者。10.如申请专利范围第6项所述之立体浮雕拼图构造,其中所述单元拼块(52)其于浮雕表面之上曲面上,设有等高之浮凸注记字体(54),其浮凸注记字体系随高低起伏之浮雕表面同等起伏表现,可标记*行政区域之州名别(41)及州行政中心别(42)者。11.如申请专利范围第6项所述之立体浮雕拼图构造,其中所述于基板上所预设之主题图案之立体模型,其可为呈现出动物、建筑物、风景主题、交通工具等造形者。12.如申请专利范围第6项所述之立体浮雕拼图构造,其中所述单元拼块(52)于其底面设有凸设一定位柱(56),同时于其基板之相对位置上设有定位孔(57),使其单元拼块(52)可组入于基板之沟槽(53)中,同时亦能令定位柱(56)与定位孔(57)具有定位插入功能。13.如申请专利范围第6项所述之立体浮雕拼图构造,其中定位呈一筒状之定位穴(59a)。14.如申请专利范围第6项所述之立体浮雕拼图构造,其中定位系由至少三根以上之卡榫(59b)所圈围成,使卡榫(59b)所围成之内部空间以令定位柱(56)嵌入固定。15.如申请专利范围第6项所述之立体浮雕拼图构造,其中该基板(50a)之外轮廓呈所欲拼图之主题相同。16.如申请专利范围第15项所述之立体浮雕拼图构造,其中该基板(50a)于外轮廓设有凹陷之沟槽(58)。17.如申请专利范围第15项所述之立体浮雕拼图构造,其中该基板(50b)于外轮廓设有凹陷之阶级槽(58a)。图式简单说明:第1图系本创作实施例之构造分解图。第2图系本创作实施例基板之上视图。第3图系本创作实施例一纵向3-3剖线之侧剖视图。第4图系本创作实施例一横向4-4剖线之侧剖视图。第5图系本创作实施例拼合后之外观图。第6图系本创作实施例中各单元拼块之上曲面之曲线分布图。第7图系本创作另一实施例中基板之立体图。第8图系第7图中一局部放大剖面示意图。第9图系另一实施例中单元拼块之剖面示意图。第10图系本创作中又一单元拼块固定构造示意图。第11图系如第10图单元拼块固定构造组合后侧剖视图。第12图系本创作基板另一实施例上视图。第12a图系本创作基板与拼块组合后侧视图。第13图系本创作基板另一实施例上视图。第13a图系本创作基板与拼块组合后侧视图。第14图系本创作中单元拼块固定构造示意图。第15图系本创作中另一单元拼块固定构造示意图。 |
