镍合金溅镀靶

摘要

一种镍合金溅镀靶，其特征在于：镍中含有钽0.5～10at％，且不计气体成分之不可避免之杂质在100wtppm以下。本发明所提供之镍合金溅镀靶及其制造方法，可形成热安定性佳之矽化物(NiSi)膜、不易发生膜之凝集与过度之矽化物化、且溅镀膜形成之际粒子产生少，均一性也良好，且富有靶之塑性加工性，特别适用于闸极材料(薄膜)之制造。