发明名称 铟-硼双晕金氧半场效电晶体(MOSFET) INDIUM-BORON DUAL HALO MOSFET
摘要 一种包括形成一含一沟道区电晶体装置;植入第一晕进入沟道区之方法;及植入第二不同晕进入沟道区之方法。一装置包括一在基板上形成之闸电极;一在基板中闸极下及在接点间形成之沟道区;第一晕植入包括沟道区之第一种类;及第二晕植入包括沟道区之沟道区之第二种类。
申请公布号 TW200417012 申请公布日期 2004.09.01
申请号 TW092126828 申请日期 2003.09.29
申请人 英特尔公司 发明人 克瑞E. 伟柏;格哈德 史罗;依那R. 波斯特;马克A. 史特勒
分类号 H01L29/10 主分类号 H01L29/10
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国