发明名称 |
铟-硼双晕金氧半场效电晶体(MOSFET) INDIUM-BORON DUAL HALO MOSFET |
摘要 |
一种包括形成一含一沟道区电晶体装置;植入第一晕进入沟道区之方法;及植入第二不同晕进入沟道区之方法。一装置包括一在基板上形成之闸电极;一在基板中闸极下及在接点间形成之沟道区;第一晕植入包括沟道区之第一种类;及第二晕植入包括沟道区之沟道区之第二种类。 |
申请公布号 |
TW200417012 |
申请公布日期 |
2004.09.01 |
申请号 |
TW092126828 |
申请日期 |
2003.09.29 |
申请人 |
英特尔公司 |
发明人 |
克瑞E. 伟柏;格哈德 史罗;依那R. 波斯特;马克A. 史特勒 |
分类号 |
H01L29/10 |
主分类号 |
H01L29/10 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
美国 |