发明名称 超薄铜电铸层的制造方法
摘要 本发明系制造厚度10微米以内的无内应力铜电铸层,特别是5微米以内的无内应力超薄铜电铸层之制造方法,制得的铜电铸层不只没有内应力,也须没有针孔,并具有适当的抗张强度以利此发明的铜电铸层之应用。发明的铜电铸溶液除了铜成分与硫酸外,也含有分子量低于50,000的动物胶并利用脉冲电流施行铜电铸以获得无内应力超薄铜电铸层。
申请公布号 TW200500499 申请公布日期 2005.01.01
申请号 TW092116212 申请日期 2003.06.16
申请人 国防部中山科学研究院 发明人 许文荣;黄建和;施修正;吴宪明
分类号 C25D1/00 主分类号 C25D1/00
代理机构 代理人
主权项
地址 桃园县龙潭乡佳安村中正路佳安段四八一号