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发明名称
超薄铜电铸层的制造方法
摘要
本发明系制造厚度10微米以内的无内应力铜电铸层,特别是5微米以内的无内应力超薄铜电铸层之制造方法,制得的铜电铸层不只没有内应力,也须没有针孔,并具有适当的抗张强度以利此发明的铜电铸层之应用。发明的铜电铸溶液除了铜成分与硫酸外,也含有分子量低于50,000的动物胶并利用脉冲电流施行铜电铸以获得无内应力超薄铜电铸层。
申请公布号
TW200500499
申请公布日期
2005.01.01
申请号
TW092116212
申请日期
2003.06.16
申请人
国防部中山科学研究院
发明人
许文荣;黄建和;施修正;吴宪明
分类号
C25D1/00
主分类号
C25D1/00
代理机构
代理人
主权项
地址
桃园县龙潭乡佳安村中正路佳安段四八一号
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