| 摘要 |
本发明大致有关于从二进位半色调(“BHT”)光罩产生的改良二进位半色调光罩与微观三维结构(例如，微电机械系统(MEMS)、微光学、光子、微结构与其他三维、微观装置)。更明确而言，本发明提供一方法，用以设计一BHT光罩布局；将该布局转移给一BHT光罩；及透过使用本发明方法所设计的BHT光罩来制造三维微观结构。关于这一点，该用以设计一BHT光罩布局的方法包含下列步骤：产生至少两个像素；将该等像素的每一者分成一些子像素，其中该等子像素具有在一第一轴的可变长度、与在一第二轴的固定长度；及将该等像素阵列配置，以形成经由像素而传送光的一图案，如此形成一连续色调、空气光影像。该等子像素面积应该小于使用二进位半色调光罩的一曝露工具光学系统的最小解析度。经由使用此方法，可将一BHT光罩设计成具有连续灰色位准，使得在每个灰色位准之间的光强度变化是有限与线性。结果，当此BHT光罩用来产生三维微观结构时，在构成的物件上产生一较平滑与更线性轮廓是可能的。 |
