用于基板的载具及组装该载具的方法

摘要

本发明关于薄膜的真空沉积领域中用于基板的载具及组装该载具的方法。具体而言，本发明针对一种用于基板的载具(1)，该基板要在真空室中涂布，该载具包含：第一框架(3)，第一框架(3)包含两个垂直部分(32)及两个水平部分(31)，这些部分经尺寸调整以围绕该基板；第二框架(2)，第二框架(2)经尺寸调整以界定要涂布的基板的区域，且第二框架(2)经尺寸调整以覆盖第一框架(3)的至少第一部分(33)，从而在第二框架(2)安装至第一框架(3)时，防止第一框架(3)的第一部分(33)被涂布；以及其中第二框架(2)以可拆卸的方式安装至第一框架(3)。

主权项

一种用于在真空室中要涂布的基板的载具(1)，所述载具包含：第一框架(3)，所述第一框架(3)包含两个垂直部分(32)及两个水平部分(31)，所述两个垂直部分(32)及两个水平部分(31)经尺寸调整以围绕所述基板；第二框架(2)，所述第二框架(2)包括两个第二垂直部分(22)和两个第二水平部分(21)，且经尺寸调整以界定要涂布的所述基板的区域，其中所述第二框架(2)的所述两个第二垂直部分(22)和所述两个第二水平部分(21)为条形，且经尺寸调整以覆盖所述第一框架(3)的至少第一部分(33)，从而在所述第二框架(2)安装至所述第一框架(3)时，防止所述第一框架(3)的所述第一部分(33)被涂布；以及其中所述第二框架(2)以可拆卸的方式安装至所述第一框架(3)，其中所述第一框架(3)的所述垂直部分(32)的材料与所述第一框架(3)的所述水平部分(31)的材料不同；和/或所述第二框架(2)的所述第二垂直部分(22)的材料与所述第二框架(2)的所述第二水平部分(21)的材料不同，其中所述第二框架包含停止器部分，以将所述基板限制在水平方向上，其中所述停止器部分布置在所述第二框架的适合的位置处，以使得所述基板能够在接近于所述真空室的处理温度的高温下限制于水平位置，从而确保所述基板的垂直边缘由所述第二框架来覆盖。