发明名称 高密度碟片成型方法
摘要 一种高密度碟片成型方法,系使用奈米转印的方式,并搭配高平整度基材,其实施步骤包括有:提供具有一凸版结构之碟片母模及一基板,其中母模或基板对于紫外光而言必须是透明的,其中该凸版结构系具有一资料图案;涂布一脱模层于该凸版结构上;涂布一紫外光硬化层于该基板上;将该凸版结构与该紫外光硬化层对准靠合进行该资料图案转印,并同时施予紫外光曝光;脱模完成单层碟片结构;在该单层碟片结构上,重复涂布紫外光硬化层(含)以后的步骤,则可形成多层碟片结构。
申请公布号 TW200522062 申请公布日期 2005.07.01
申请号 TW092136947 申请日期 2003.12.26
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 林熙翔;郑瑞庭;陈建洋;苏建彰
分类号 G11B7/26 主分类号 G11B7/26
代理机构 代理人
主权项
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号