雷射照射装置,雷射照射方法,和结晶半导体膜的制造方法

摘要

本发明的目的是提供一种使用包括电流计镜和fθ透镜的光学系统的精简的雷射照射装置以及雷射照射方法，该雷射照射装置可以抑制由因基底背面的次级射束引起的干涉影响，从而能够对被照射物进行均匀的雷射退火，且可以提高生产量。在本发明中，当假设形成有被照射物的基底的厚度为d，折射率为n，并将真空中的光速定义为c时，让雷射光束的脉宽t满足不等式ct＜2nd。在上述结构中，即使使用包括电流计镜和fθ透镜的光学系统，也可以减少因基底背面的次级射束引起的干涉影响，从而可以对被照射物执行均匀的雷射退火。