| 摘要 |
본 발명은, 불소 가스를 이용하여 기판 표면을 에칭하는 것을 통해 적어도 하나의 결정 실리콘 기판의 적어도 하나의 기판 표면을 조직화하기 위한 방법에 관한 것이며, 실리콘 기판의 에칭 공정은 플라스마 에칭 챔버 내에서 생성되는 플라스마 내에서 실행된다. 또한, 본 발명은, 불소원과 연결된 가스 공급 유닛과 적어도 하나의 플라스마원을 구비한 플라스마 에칭 챔버를 포함하여 적어도 하나의 결정 실리콘 기판의 적어도 하나의 기판 표면을 조직화하기 위한 장치에도 관한 것이다. 그러므로 본 발명의 과제는, 재료 및 환경을 보호하면서 실리콘 표면의 고품질의 조직화를 가능하게 하는 실리콘 표면 조직화 방법 및 장치를 제안하는 것에 있다. 상기 과제는, 한편으로 플라스마 에칭 챔버로 불소 가스와 더불어 적어도 기상 황산화물이 공급되는 방법을 통해 해결된다. 또한, 상기 과제는, 가스 공급 유닛이 적어도 하나의 황 산화물원과 추가로 연결되는 장치를 통해서도 해결된다. |
