发明名称 离子布植之增进
摘要 本发明关于使用离子束布植离子于一基材中之方法,其中在离子束中可能出现不稳定,且关于配合此方法使用之离子布植机。本发明亦关于供产生一可快速关闭之离子束的离子布植机。基本上,本发明提供布植离子之方法,其包含当已侦测到一不稳定时关闭该离子束,同时继续该基材相对于该离子束之移动,以留下一横越该基材之扫描线的未布植部位、再次建立一稳定离子束、且藉由布植该路径未布植部位,以完成该扫描线。
申请公布号 TW200529329 申请公布日期 2005.09.01
申请号 TW094100186 申请日期 2005.01.04
申请人 应用材料股份有限公司 发明人 福德马吉德;哈瑞森伯纳德;法雷马文;金德斯雷彼得;瑞汀杰佛瑞;萨卡斯塔高;威尔斯史蒂芬
分类号 H01L21/42 主分类号 H01L21/42
代理机构 代理人 蔡坤财
主权项
地址 美国