制造均匀、等向性应力于一溅镀膜中之方法与设备

摘要

本发明提供用于制造均匀、等向性应力于一溅镀膜中之方法与设备。在较佳具体实施例中，本发明提出一新颖溅镀几何形状及一新的传送速度范围，其等协同下能允许达到该膜材料可支持之最大应力，同时避免X–Y应力异向性，且防止在整个基板上的应力不均匀性。