| 主权项 |
1.(2R,2′R,2〞R)-参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯。2.(2S,2′S,2〞S)-参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯。3.一种光学活性型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯之制造方法,其特征系由第三级胺、第四级铵盐、三取代膦及第四级鏻盐所成群中选出之一种或一种以上之化合物作为触媒使用,使1莫耳之三聚异氰酸及3~60莫耳之光学活性表卤醇在40~115℃的温度下反应,生成三聚异氰酸之2-羟基-3-丙基酯,于制得之三聚异氰酸之2-羟基-3-丙基酯中添加硷金属氢氧化物或硷金属醇盐而成。4.如申请专利范围第3项之光学活性型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯之制造方法,其中使三聚异氰酸1莫耳及光学活性表卤醇3~60莫耳反应时,反应混合液内之水分量未满1%。5.如申请专利范围第3项或第4项之光学活性型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯之制造方法,系形成三聚异氰酸酯之2-羟基-3-丙基酯后,以馏出法回收过量使用的光学活性表卤醇,其后加溶剂并予稀释后,添加硷金属氢氧化物或硷金属醇盐。6.如申请专利范围第3项之光学活性型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯之制造方法,系形成三聚异氰酸之2-羟基-3-卤丙基酯后,以馏出法回收过量使用的光学活性表卤醇后,对于三聚异氰酸之2-羟基-3-卤丙基酯1重量份,藉由添加外消旋体之表卤醇或卤系溶剂,醚系溶剂,酮系溶剂或芳香族系溶剂1重量份以上予以稀释,其后在脱水回流下添加硷金属氢氧化物。7.如申请专利范围第6项之光学活性型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯之制造方法,其中溶剂为消旋体之表卤醇,二氯甲烷,氯仿,三氯乙烷,苯或甲苯。8.如申请专利范围第3项之光学活性型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯之制造方法,其中光学活性型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯为(2R,2′R,2〞R)-参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯。9.如申请专利范围第3项之光学活性型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯之制造方法,其中光学活性型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯为(2S,2′S,2〞S)-参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯。10.一种光学活性型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯之制造方法,其特征在于采用直链淀粉三酯衍生物,直链淀粉三胺基甲酯衍生物,纤维素三酯衍生物或纤维素三胺基甲酯衍生物光学分割参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯之外消旋体。11.一种型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯之制造方法,其特征在于将利用申请专利范围第3项至第10项中任一项之方法制造的光学活性型参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸之(2R,2′R,2〞R)-参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯及(2S,2′S,2〞S)-参-(2,3-环氧基丙基)-三聚异氰酸酯以1:1之莫耳混合而成。 |
