| 主权项 |
1.一种喷墨记录头的制造方法,该喷墨记录头包含用于排出墨水之排出通口,该方法包含藉着施行一排出通口形成构件之乾式蚀刻法形成该排出通口之步骤,用于形成该排出通口,其中该排出通口形成构件系由包含树脂之矽所形成,且该乾式蚀刻法之步骤系藉着使用一包含氧及氯当作必需成份之蚀刻气体所施行。2.如申请专利范围第1项之喷墨记录头的制造方法,其中该排出通口形成构件包含一形成墨水流动路径之流动路径形成构件,及一形成排出通口表面之防水构件,且在该流动路径形成构件之蚀刻步骤的氯之混合比率系比在该防水构件之蚀刻步骤的氯之混合比率较高。3.如申请专利范围第1项之喷墨记录头的制造方法,其中该乾式蚀刻步骤中之光罩图案系包含抗蚀剂之矽。4.如申请专利范围第1项之喷墨记录头的制造方法,其中该排出通口形成构件包含一矽甲烷耦联剂。5.如申请专利范围第1项之喷墨记录头的制造方法,该方法尚包含:第一步骤,其以可溶解之树脂形成一液体流动路径图案;第二步骤,其以该排出通口形成构件覆盖该液体流动路径图案;及第三步骤,其在该乾式蚀刻步骤之后洗脱该液体流动路径图案,以形成一液体流动路径。6.如申请专利范围第5项之喷墨记录头的制造方法,尚包含事先移去一基板之周围区域的步骤,在此周围区域没有任何光罩图案系在一树脂层中形成为该第二步骤及该蚀刻步骤间之排出通口形成构件。7.如申请专利范围第5项之喷墨记录头的制造方法,其中在该第二步骤,藉着于溶剂中将一树脂溶解成为液体流动路径组成构件(下文称为液体流动路径组成树脂)所产生之溶解材料,系涂在该液体流动路径图案上,以固化该液体流动路径组成树脂,用于将一树脂层形成为该排出通口形成构件。8.一种依申请专利范围第1项之制造方法所制成之喷墨记录头,其包含一基板,该基板包含能量产生元件,用于排出墨水;及一排出通口形成构件,其配备有一用于排出该墨水之排出通口,该排出通口形成构件与该基板接合。图式简单说明:图1A、1B、1C及1D系剖视图,其显示本发明喷墨记录头之制造方法具体实施例之各制程;图2A、2B、2C及2D系剖视图,其显示倘若藉着使用氧电浆形成一喷墨记录头之排出通口的制造方法之制程;图3A、3B、3C及3D系剖视图,其显示倘若藉着使用氧及氯之混合电浆形成一喷墨记录头之排出通口的制造方法之制程;图4系本发明之一喷墨记录头具体实施例之剖视图;及图5系一概要图,其显示一晶圆周围之位置,而于该晶圆中没有任何光罩图案。 |
