发明名称 1,2- -2- 二叠氮化物磺酸酯系感光剂及其制法,暨光阻剂组成物1,2-NAPHTHOQUINONE-2-DIAZIDESULFONATE ESTER PHOTOSENSITIVE AGENT , METHOD FOR PRODUCING THE PHOTOSENSITIVE AGENT, AND PHOTORESIST COMPOSITION
摘要 本发明提供一种有用作为使用于制造半导体积体电路、液晶显示器、EL显示器等等之光阻剂中之感光剂的1,2--2-二叠氮化物磺酸酯系感光剂,一种制造感光剂之方法,及一种包含此感光剂之光阻剂组成物。1,2--2-二叠氮化物磺酸酯系感光剂系经由使多羟酚与1,2--2-二叠氮化物磺醯氯在中和剂之存在下反应而制得,其中此多羟酚系经由在间苯二酚与选自C3-C10醛之至少一醛之间之缩合反应所制得,且其包含以化学式(I)表示之化合物作为主要成份,及含量10%或以下之经由使用GPC测得之滞留时间较以化学式(I)表示之化合物短之成份(I)其中各R1、R2、R3及R4代表C2-C9烷基。
申请公布号 TWI247192 申请公布日期 2006.01.11
申请号 TW092105596 申请日期 2003.03.14
申请人 东洋合成工业股份有限公司 发明人 饭田弘忠;诹访美晴;萩原勇一;多田胜美;香取末广;宫崎常昭
分类号 G03F7/008 主分类号 G03F7/008
代理机构 代理人 赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号1112室;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号1112室
主权项 1.一种1,2--2-二叠氮化物磺酸酯系感光剂,其系 经由使一多羟酚与1,2--2-二叠氮化物磺醯氯在 中和剂之存在下反应而制得,其中该多羟酚系经由 在间苯二酚与选自C3-C10醛之至少一醛之间之缩合 反应所制得,且其包含以化学式(I)表示之一化台物 作为主要成份,及含量10%或以下之经由使用GPC测得 之滞留时间较以化学式(I)表示之该化合物短之成 份: 其中各R1、R2、R3及R4代表C2-C9烷基。 2.如申请专利范围第1项之1,2--2-二叠氮化物磺 酸酯系感光剂,其中该多羟酚包含以化学式(I)表示 之该化合物作为主要成份,包含含量5%或以下之经 由使用GPC测得之滞留时间较以化学式(I)表示之该 化合物短之成份。 3.如申请专利范围第1项之1,2--2-二叠氮化物磺 酸酯系感光剂,其中化学式(I)中之各R1、R2、R3及R4 为C4-C6烷基。 4.如申请专利范围第1项之1,2--2-二叠氮化物磺 酸酯系感光剂,其中该多羟酚包含以化学式(I)表示 之该化合物作为主要成份,系以1莫耳之多羟酚计, 与至少3莫耳之量的1,2--2-二叠氮化物磺醯氯 反应。 5.如申请专利范围第1项之1,2--2-二叠氮化物磺 酸酯系感光剂,其经加入至光阻剂中,以暴露至i-线 。 6.一种光阻剂组成物,包含如申请专利范围第1至5 项中任一项之1,2--2-二叠氮化物磺酸酯系感光 剂及硷可溶解树脂。 7.如申请专利范围第6项之光阻剂组成物,其经使用 于暴露至i-线。 8.一种1,2--2-二叠氮化物磺酸酯系感光剂之制 法,包括下列步骤:经由在间苯二酚与选自C3-C10醛 之至少一醛之间之缩合反应制得多羟酚,此多羟酚 包含以化学式(I)表示之化合物作为主要成份,及含 量10%或以下之经由使用GPC测得之滞留时间较以化 学式(I)表示之化合物短之成份: 其中各R1、R2、R3及R4代表C2-C9烷基;及使多羟酚与1, 2--2-二叠氮化物磺醯氯在中和剂之存在下反 应。 图式简单说明: 图1系于合成实施例1中合成得之多羟酚的GPC图。
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