| 摘要 |
기판 스테이지에 의해 유지된 기판을 샷 영역마다 제1 방향으로 주사 노광을 행하는 노광 방법에서는, 노광 영역이 기판 상에 있는 노광 광의 조사 영역에 도달하기 전에 상기 노광 영역의 면 위치가 사전 측정되고, 상기 주사 노광을 행하는 샷 영역을 변경하기 위한 상기 기판 스테이지의 이동은, 상기 기판 스테이지가 곡선 형상의 궤적을 따라 이동하는 제1 이동과, 상기 기판 스테이지가 상기 제1 방향으로 직선적으로 이동하는 제2 이동을 포함하며, 상기 기판 스테이지의 이동이 상기 제1 이동일 때, 상기 면 위치가 사전 측정되고, 샷 영역에서 사전 측정 위치가 복수의 샷 영역에서 공통된다. |
