发明名称 微影设备,装置之制造方法及该方法所制成之装置,控制系统,及电脑程式产品
摘要
申请公布号 TWI308771 申请公布日期 2009.04.11
申请号 TW091111571 申请日期 2002.05.30
申请人 ASML荷兰公司 ASML NETHERLANDS B.V. 荷兰 发明人 海尼 美尔 莫德;珍 柏纳德 波莱奇莫斯 凡 沙特;马克斯 富兰西可斯 安东尼斯 欧林;安东尼斯 乔哈奈斯 乔瑟夫 凡 迪瑟东克;马瑟尔 迪利奇斯
分类号 H01L21/02 (2006.01);G02B5/08 (2006.01);G02B5/10 (2006.01);G03F7/20 (2006.01) 主分类号 H01L21/02 (2006.01)
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种微影投影设备,包括:-一辐射系统用以提供一辐射投影光束;-一支持结构用以支持图案形成装置,此图案形成装置用以根据所需图案使投影光束形成图案;-一基板台用以支承,基板;-一投影系统用以将形成图案之光束投影于基板之一目标部分上;其中辐射系统包括一照明系统以其界定投影光束之亮度分布;其特点为照明系统包括导引装置以其将投影光束之不同部分导引至不同方向以于图案形成装置处提供投影光束之所需之角度亮度分布,该导引装置包括多个分立之反射器,每一反射器均用以导引一部分投影光束,光束之定向可予以个别控制以将投影光束之对应部分导引至一所需方向。2.如申请专利范围第1项之设备,其中照明系统尚包括重新导引装置用以重新导引至少一部分经导引之投影光束及用以于投影光束之一横截面,特别系于一瞳孔平面中产生一空间亮度分布,此分布对应于该角度亮度分布。3.如申请专利范围第2项之设备,其中亮度系统尚包括加宽装置以其将导引之投影光束传播方向之范围加宽。4.如申请专利范围第3项之设备,其中加宽装置包括一扩散器装置,特别系一扩散板。5.如申请专利范围第1,2,3或4项之设备,其中分立之反射器系于投影光束之横截面区域中以相邻方式配置。6.如申请专利范围第1,2,3或4项之设备,其中照明系统尚包括集中装置以其将部分投影光束集中于分立之反射器上。7.如申请专利范围第6项之设备,其中聚焦装置包括具有一抛物线或双曲线横截面型式之一反射表面区域或一双曲线或抛物线反射表面之阵列。8.如申请专利范围第1项之设备,其中该导引装置包括一第一小平面反射器,每一分立之反射器为第一小平面反射器之一小平面及用以控制一第二小平面反射器之一经选定之小平面之定向而将一辐射源之影像投影于此种选定之小平面上。9.如申请专利范围第8项之设备,尚包括用于每一该等分立之反射器之致动器装置,用以藉绕二个实施之较佳者为垂直之轴之旋转而改变此分立之反射器之定向,而此二垂直轴实质上垂直于此分立之反射器之光轴。10.如申请专利范围第8或9项之设备,其中该第二小平面之每一小平面在定向上亦可控制。11.如申请专利范围第1项之设备,其中该导引装置包括一第一小平面反射器,第一小平面反射器之每一小平面用以将一辐射源之一影像投影于一第二小平面反射器之一小平面上。12.如申请专利范围第8,9或11项之设备,其中该第二小平面反射器较之该第一小平面反射器具有较多之小平面。13.如申请专利范围第8,9或11项之设备,其中该小平面反射器在实质上系位于该投影系统之一瞳孔之一共轭平面中。14.一种装置制造方法,包括:-提供包含辐射敏感材料之一基板;-提供至少一投影辐射光束;-修改投影光束之亮度分布;-使用图案形成装置以使经修改之光束于其横截面有一图案;-将成图案之辐射光束投影于包含至少一部分辐射敏感材料之一目标上,其特点为对于投影光束之亮度分布之修改包括控制辐射传播之方向,其中投影光束包括多个子光束,其中至少若干子光束系使用分立之反射器而被导引至不同方向,及其中分立之反射器系予以个别控制以将对应之子光束导引至所需方向。15.如申请专利范围第14项之方法,其中于图案形成装置处之辐射传播之所需角度亮度分布系藉导引子光束而产生,其中经导引之子光束有助于投影光束在其横截面中之所需空间亮度分布,及其中每一该等辐射传播之不同方向系对应于空间亮度分布于该横截面之一特定区域,特别系对应于焦点平面中之一特定局部点。16.如申请专利范围第15项之方法,其中至少一子光束在其被引导前系予以操纵,如此经引导之子光束即可传播至传播方向之经界定之范围。17.如申请专利范围第15项之方法,其中经引导之子光束系各自在实质上系传播至一单一方向。18.如申请专利范围第15,16或17项之方法,其中至少一经导引之子光束之传播方向之范围系使之增大,以使此个别之子光束对应于该空间亮度分布分布之一增大区域。19.一种控制投影辐射光束之亮度分布以供微影术使用之系统,包括:-一计算单元,用以根据该投影光束之一特定亮度分布计算对于此特定分布之所需修改以产生所需要之亮度分布;-输入装置用以输入有关所需亮度分布之资讯;-输出装置用以将多个控制信号输出至能重新导引若干部分之投影光束之多个分立之反射器;其中计算单元系使之适合计算控制信号,以使分立反射器之定向可予以控制以将辐射光束之特定亮度分布修改成对应于所需亮度分布之一角度亮度分布。20.一种可使用于电脑之记录媒体,包括储存有电脑可读取之程式码,用于产生投影光束之所需之空间亮度分布以用于微影术之电脑程式,其中-投影光束之辐射传播之一角度亮度分布系对应于投影光束之横截面中之一空间亮度分布;及-导引装置可藉重新导引若干部分之投影光束而予以控制以形成一角度亮度分布以供任何所空间亮度分布之用;该电脑程式包括代码装置以其适合计算导引装置之必需状态及/或控制信号用以控制导引装置以形成对应于空间亮度分布之角度亮度分布。图式简单说明:图1例示根据本发明之第一具体实例之一简图;图2以简图例示根据先前之技艺之配置将一角度亮度分布转换成一空间亮度配置;图3以更详细方式显示本发明之第一具体实例之辐射系统;图4及5描绘二相似空间亮度分布;图6显示根据本发明之第二具体实例之一微影设备;图7显示根据本发明之第三具体实例之一微影设备之辐射系统;图8描缩可用于本发明之第一至第三具体实例之反射性元件;图9描绘根据本发明第四具体实例之一微影投影装置;图10至12描绘根据本发明之第四具体实例之各种不同状态之一微影设备之辐射系统;图13描绘根据第四具体实例之一变体之微影设备之辐射系统;图14A及B描绘本发明之第四具体实例之图场及瞳孔小平面镜;图15描绘根据第四具体实例之一变体之成组之小平面;图16描绘可用于本发明之第四具体实例中之一可控制之一小平面;及图17及18描绘可用于本发明之第四具体实例中之一代替形成之可控制之小平面。
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