发明名称 CONVERSION OF THIN TRANSISTOR ELEMENTS FROM SILICON TO SILICON GERMANIUM
摘要 본 개시내용의 실시형태들은 박막 트랜지스터 엘리먼트들을 실리콘(Si)에서 실리콘 게르마늄(SiGe)으로 변환시키는 것과 관련된 기술들 및 구성들을 제공한다. 한 실시형태에서, 방법은 반도체 기판 상에 배치된 트랜지스터 디바이스의 채널 몸체 를 갖는 반도체 기판을 제공하는 단계 - 상기 채널 몸체는 실리콘을 포함함 -, 채널 몸체 상에 게르마늄을 포함하는 클래딩 층을 형성하는 단계, 및 게르마늄이 채널 몸체 내로 확산되게 하도록 채널 몸체를 어닐링하는 단계를 포함한다. 다른 실시형태들이 설명되고/설명되거나 청구될 수 있다.
申请公布号 KR20160122277(A) 申请公布日期 2016.10.21
申请号 KR20167028404 申请日期 2013.06.26
申请人 INTEL CORPORATION 发明人 GLASS GLENN A.;AUBERTINE DANIEL B.;MURTHY ANAND S.;THAREJA GAURAV;CEA STEPHEN M.
分类号 H01L21/8234;H01L27/088 主分类号 H01L21/8234
代理机构 代理人
主权项
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