| 摘要 |
본 발명의 목적은, 고감도의 라디칼 중합개시제로서 기능할 수 있는 신규 옥심에스테르 화합물 및 이를 이용한 경화성 조성물을 제공하는 것에 있다. 본 발명의 또 다른 목적은, 특히, 포토레지스트 재료에 적합하게 이용되는 네가티브형 레지스트 재료 및 이 네가티브형 레지스트를 이용한 화상 패턴 형성방법을 제공하기 위한 것이다. 하기 일반식(1)로 표시되는 라디칼 중합개시제(A)로서, 일반식(1)식 중, R, R는, 알킬기, 아릴기, 복소환기 등; R~R는, 수소원자, 알킬기 등; R~R는, 수소원자, 알킬기, 아릴기, 복소환기 등; R~R는, 수소원자, 시아노기, 니트로기, 할로알킬기, 설피닐기, 설포닐기, 또는 아실기 등에서 선택되고, R~R모두가 동시에 수소원자가 되는 경우는 없다. |
