| 摘要 |
본 발명의 후강판은 소정의 화학 성분 조성을 만족하고, 산소를 제외한 구성 원소가, 질량％로, 2％ < Ti < 40％, 5％ < Al < 30％, 5％ < Ca < 40％, 5％ < REM < 50％, 2％ < Zr < 30％, 1.0 ≤ REM/Zr을 만족하는 산화물을 함유하고, 산화물 중 원 상당 직경이 2㎛ 미만의 것 300개/㎟ 이상, 원 상당 직경이 2㎛ 이상의 것이 100개/㎟ 이하, Ti 질화물 중 원 상당 직경이 1㎛ 이상의 것이 7개/㎟ 이하, 원 상당 직경이 20㎚ 이상의 것이 1.0×10개/㎟ 이상 존재하고, 관계식 |da-df|/da≤0.35를 만족한다. |
