发明名称 自动化学处理工作件特别是半导体之方法与器具
摘要
申请公布号 TW018895 申请公布日期 1975.07.01
申请号 TW06310656 申请日期 1974.04.04
申请人 联合化学公司 发明人 DAVID LYNN OUSTERLING;HAROLD FREEMAN JONES;ROLARD WILLIAM ANDERSON
分类号 B05D1/02;B05D1/18;H01L21/00 主分类号 B05D1/02
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1﹒以液体连续处理工作件用之器具,此器具 包含;(a)多个处理室(b)其中至少 一个室为适合盛装一种液体之浸渍室,及 (c)其中至少一个室为一喷雾室,此室 配备有装置必将液体喷在室内所悬挂之工 作件上,(d)用以控制至少一浸渍室内 之处理液体温度之装置,(e)用以将至 少一浸渍室内之液体混合物组份保持于预 定限度内之装置,及(f)运送机装置, 用以按照预定之定时循环将工作件自动地 由一处理室传递至另一处理室及经由各处 理室顶部将工作件降下者。 2﹒根据上述请求专利部份第1项之器具,在 其中该等处理室系可拆下及可互相交换之 模组者。 3﹒根据上述请求专利部份第1项之器具,此 器具系至少包括两个浸渍室者。 4﹒根据上述请求专利部份第1项之器具,此 器具包括装置以将一个或多个浸渍室内之 液体体积自第保持于预定限度内者。 5﹒根据上述请求专利部份第1项之器具,在 其中动一及第二处理室为浸渍室及第三室 为一喷雾室者。 6﹒根据上述请求专利部份第1项之器具,此 器具包括装置以在自此器具卸载工作件之 附近提供清洁而滤清之空气环境者。
地址 美国纽约州14603罗契斯特