| 主权项 |
1﹒(原申请第5项)下式化合物的一种制造法:( 式中;R1和R2是各代表氢原子,低级烷基, 置换低级烷基,环己基,而置换低级烷基则为由 烃基,卤原子,低级甲氧基,氰基,乙醯氧基, 甲氧羰基代乙基,甲氧羰基所置换之低级烷基或 R1和R2介入氧原子,碘原子,氮原子形成之 吗福环,啶基环,基环,硫代吗福环 ,Y是代表─CONH2,─COOH,─CO OR,R为C1-C4之烷基)包括便不式的醛 衍生物;(式中;R1和R2的意义如上)与下 式的化合物;CN─CH2─Y(式中;Y的意 义如上)在惰性有机溶媒中,于室温或以上的温 度反应者。 4﹒(原申请第8项)下式的染料的一种制造法(式 中;R1和R2是各代表氢原子,低级烷基,置 换低级烷基,环已基,而置换低级烷基则为由烃 基,卤原子,低级甲氧基,氰基,乙醯氧基,甲 氧羰基代乙基甲氧羰基所置换之低级烷基或于R 1和R2而入氧原子,碘原子,碳原子,氮原子 而形成之吗福环,啶基环,基环,硫代 吗福环,R3,R4,R5,R6是各代表氢 原子,低级烷基,低级烷氧基卤原子烷磺醯基, 烷醯胺基,烷醯基,硝基,烷醯基,烷氧羰基, 羰胺基,硫代氰基,N─烷基或N,N─二烷基 代磺醯胺基,包括使不式的化合物;(式中;R 1和R2的意义如上;Y是代表─CONH2, ─COOH,─COOR,R为C1-C4之烷 基)与从下式的羧基苯胺甲酸衍生物(式中;R 3,R4,R5,R6的意义如上),下式的邻 ─胺基苯甲醯胺衍生物(式中;R3,R4,R 5,R6的意义如上)及下式的邻─胺基苯甲酸 衍生物(式中;R3,R4,R5,R6的意义 如上)之群中选择的一种化合物,在惰性有机溶 媒中,于高温下反应者。 |
