发明名称 |
A METHOD OF FORMING PATTERNS A METHOD OF FORMING MAGNETIC MEMORY DEVICES USING THE SAME AND MAGNETIC MEMORY DEVICES MANUFACTURED USING THE SAME |
摘要 |
패턴 형성 방법은, 기판 상에 식각 대상막을 형성하는 것, 상기 식각 대상막을 패터닝하여 패턴들을 형성하는 것, 제1 이온 소스로부터 발생되는 제1 이온 빔을 이용하여 상기 패턴들의 측벽들 상에 절연막을 형성하는 것, 및 제2 이온 소스로부터 발생되는 제2 이온 빔을 이용하여 상기 절연막을 제거하는 것을 포함한다. 상기 제1 이온 소스 및 상기 제2 이온 소스의 각각은 절연 소스를 포함하고, 상기 절연 소스는 산소 및 질소 중 적어도 하나이다. |
申请公布号 |
KR20160135044(A) |
申请公布日期 |
2016.11.24 |
申请号 |
KR20150067948 |
申请日期 |
2015.05.15 |
申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. |
发明人 |
JEONG, DAE EUN;SONG, YOON JONG;SHIN, HYUN CHUL |
分类号 |
H01L43/12;H01L43/02;H01L43/08 |
主分类号 |
H01L43/12 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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