发明名称 A METHOD OF FORMING PATTERNS A METHOD OF FORMING MAGNETIC MEMORY DEVICES USING THE SAME AND MAGNETIC MEMORY DEVICES MANUFACTURED USING THE SAME
摘要 패턴 형성 방법은, 기판 상에 식각 대상막을 형성하는 것, 상기 식각 대상막을 패터닝하여 패턴들을 형성하는 것, 제1 이온 소스로부터 발생되는 제1 이온 빔을 이용하여 상기 패턴들의 측벽들 상에 절연막을 형성하는 것, 및 제2 이온 소스로부터 발생되는 제2 이온 빔을 이용하여 상기 절연막을 제거하는 것을 포함한다. 상기 제1 이온 소스 및 상기 제2 이온 소스의 각각은 절연 소스를 포함하고, 상기 절연 소스는 산소 및 질소 중 적어도 하나이다.
申请公布号 KR20160135044(A) 申请公布日期 2016.11.24
申请号 KR20150067948 申请日期 2015.05.15
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 JEONG, DAE EUN;SONG, YOON JONG;SHIN, HYUN CHUL
分类号 H01L43/12;H01L43/02;H01L43/08 主分类号 H01L43/12
代理机构 代理人
主权项
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