SYSTEMS AND METHODS FOR REDUCING COPPER CONTAMINATION DUE TO SUBSTRATE PROCESSING CHAMBERS WITH COMPONENTS MADE OF ALLOYS INCLUDING COPPER

摘要

기판 프로세싱 시스템에서 구리 오염을 감소시키기 위한 시스템들 및 방법들은 기판 프로세싱 시스템의 프로세싱 챔버 내에서 기판에 대해 플라즈마 프로세스를 수행하는 단계를 포함한다. 컴포넌트는 프로세싱 챔버 내에 위치되고 구리를 포함하는 합금으로 이루어진다. 플라즈마 프로세스는 분자 수소를 포함하는 프로세스 가스 혼합물을 사용한다. 기판에 대해 플라즈마 프로세스를 수행하기 앞서 그리고 기판이 프로세싱 챔버 내에 배치되기 전에, 컴포넌트는 분자 산소 및 형성 가스를 포함하는 프로세스 가스 혼합물을 포함하는 컨디셔닝 플라즈마 프로세스를 사용하여 프로세싱 챔버 내에서 컨디셔닝된다.