发明名称 Semiconductor device and method for manufacturing the same
摘要 본 발명은 전계 효과 트랜지스터를 포함하는 반도체 소자에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 그의 상부에 활성 패턴을 갖는 기판; 상기 활성 패턴을 가로지르는 게이트 전극; 및 상기 게이트 전극 상의 캡핑 구조체를 포함할 수 있다. 이때, 상기 캡핑 구조체는, 상기 게이트 전극 상에 순차적으로 적층된 제1 캡핑 패턴 및 제2 캡핑 패턴을 포함하고, 상기 제2 캡핑 패턴은 상기 제1 캡핑 패턴의 상면을 완전히 덮으며, 상기 제2 캡핑 패턴의 유전 상수는 상기 제1 캡핑 패턴의 유전 상수보다 더 높을 수 있다.
申请公布号 KR20160122909(A) 申请公布日期 2016.10.25
申请号 KR20150052553 申请日期 2015.04.14
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 YEO, KYOUNG HWAN;PARK, SEONG UK;LEE, SEUNG JAE;CHOI, DO YOUNG;PAAK SUNHOM;YOON, TAE EUNG;CHA, DONG HO;CHEN RUIYI
分类号 H01L29/423;H01L21/318;H01L29/66 主分类号 H01L29/423
代理机构 代理人
主权项
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