发明名称 | 速率增强的脉冲DC溅射系统 | ||
摘要 | 公开了一种脉冲直流溅射系统以及方法。该系统具有等离子体腔室、第一电源和第二电源,该等离子体腔室具有两个靶、两个磁控管和一个阳极。第一电源耦合到第一磁控管和阳极,并且在每个周期期间在阳极与第一磁控管之间提供具有正电势和负电势的周期性的第一电源电压。第二电源耦合到第二磁控管和阳极,并且提供周期性的第二电源电压。控制器对第一电源电压和第二电源电压进行相位同步和控制以施加组合阳极电压,并且使第一磁控管电压与第二磁控管电压相位同步,其中,被施加到阳极的组合阳极电压的幅值为第一磁控管电压和第二磁控管电压的总和的幅值的至少80%。 | ||
申请公布号 | CN106119792A | 申请公布日期 | 2016.11.16 |
申请号 | CN201610490917.3 | 申请日期 | 2016.04.27 |
申请人 | 先进能源工业公司 | 发明人 | D·派莱利芒特 |
分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 陈松涛;韩宏 |
主权项 | 一种脉冲直流溅射系统,包括:等离子体腔室,所述等离子体腔室包围耦合到第一靶的第一磁控管、耦合到第二靶的第二磁控管、以及阳极;第一电源,所述第一电源耦合到所述第一磁控管和所述阳极,所述第一电源被配置为在每个周期期间在所述阳极与所述第一磁控管之间提供具有正电势和负电势的周期性的第一电源电压;第二电源,所述第二电源耦合到所述第二磁控管和所述阳极,所述第二电源被配置为在每个周期期间在所述阳极与所述第二磁控管之间提供具有正电势和负电势的周期性的第二电源电压;以及控制器,所述控制器被配置为对所述第一电源电压和所述第二电源电压的负载周期进行相位同步和控制,以向所述阳极施加双极阳极电压,所述双极阳极电压是所述周期性的第一电源电压和所述周期性的第二电源电压的组合,并且所述控制器被配置为使第一磁控管电压与第二磁控管电压相位同步,其中,被施加到所述阳极的组合阳极电压的幅值是所述第一磁控管电压和所述第二磁控管电压的总和的幅值的至少百分之80。 | ||
地址 | 美国科罗拉多州 |