发明名称 Inspecting unit and method Apparatus for treating a substrate with the unit
摘要 본 발명은 검사 유닛 및 검사 방법 그리고 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따르면, 용기 및 상기 용기 내부에 위치하고 기판을 지지하는 지지 부재를 포함하고 기판을 처리하는 처리 유닛과 상기 처리 유닛에 제공된 기판으로 처리액을 공급하는 처리액 노즐을 가지는 노즐 유닛과 그리고 상기 처리액 노즐로부터 상기 처리액이 정상적으로 토출되는지 여부를 검사하는 검사 유닛을 포함하되 상기 노즐 유닛은 상기 처리액 노즐을 상기 처리 유닛에서 기판을 처리하는 공정 위치와 상기 검사 유닛에서 상기 처리액 노즐을 검사하는 검사 위치로 이동시키는 노즐 구동기를 더 포함하고 상기 검사 유닛은 투명한 재질의 플레이트와 상기 플레이트의 하부에 위치하는 촬상 부재와 상기 검사 위치에서 상기 플레이트를 향해 상기 처리액 노즐로부터 토출되는 상기 처리액의 경로 상에 광을 조사하는 광원 부재와 그리고 상기 촬상 부재에서 촬상된 영상으로부터 상기 처리액이 정상적으로 토출되는지 여부를 판정하는 판정 부재를 포함하는 기판 처리 장치를 포함한다.
申请公布号 KR101681189(B1) 申请公布日期 2016.12.02
申请号 KR20150014984 申请日期 2015.01.30
申请人 세메스 주식회사 发明人 양근화;주윤종;최기훈;김광섭
分类号 H01L21/66 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人
主权项
地址