发明名称 防护紫外漞辐射、抗磨擦及抗起霜作用之涂料之制法
摘要
申请公布号 TW028165 申请公布日期 1980.01.01
申请号 TW06710429 申请日期 1978.03.06
申请人 孟尼苏泰矿务及制造公司 发明人 ASHWANT K. MEHTA;JOSEPH LAMAR ZOLLINGER;KATHRYN A. SOINE;LARRY A. LI. N
分类号 C09D163/00 主分类号 C09D163/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种用以制备能吸收紫外线辐射、抗起霜及抗磨性之涂料(厚度在0.5与500微米之间)之方法,包括将下列成份混合并将形成之混合物热化:(1)重量比30-90%的一种环氧端基的矽烷反应成份;(2)重量比10-70%的一种脂族聚环氧化物反应成份,(3)重量比10-20%的一种能与环氧或矽烷基聚合的共聚单体反应成份,及(4)一种紫外线吸收物质,其含量足使薄膜至少吸收90%在290与400nm间之一切辊射线,又至少透射90%在400与780nm间之一切辐射线,而对400至780nm问任何5Onm范围中之辊射线透射率皆不低于75%。2.根据上述请求专利部份第1项之方法,其中环氧端基的矽烷包含重量比50-90%之反应成份,柔化的环氧化物材料包含重量比10-50%之反应成份,又共聚用单体包含重量比O-10%之反应成份。3.根据上述请求专利部份第1项之方法,其中该环氧端基之矽烷以下式为代表:及其中R3系一少于是20个碳原子不能水解的二价烃基或一少于20个碳原子之二价基其主干仅由C,N,S与O原子组成,而二价基之主干内无相邻之二杂原子,又R1系一少于10个碳原子之脂族烃基或一少于10个碳原子之醯基。4.根据上述请求专利部份第1项之方法,其中该环氧端基的矽烷以下式为代表:其中m与n各系1至4,R系一至多6个碳原子之烷基。5.根据上述请求专利部份第1项之方法,其中该涂料系结合于一基体上者。6.根据上述请求专利部份第2项之方法,其中该涂料系结合于一基体上者。7.根据上述请求专利部份第3项之方法,其中该涂料系结合于一基体上者。8.根据上述请求专利部份第4项之方法,其中该涂料系结合于一基体上者。9.根据上述请求专利部份第8项之方法,其中该基体系电影胶片。10.根据上述请求专利部份第5项之方法,其中该基体系摄影胶片。11.根据上述请求专利部份第5项之方法,其中该基体系快照彩色片。
地址 美国