发明名称 Substrat comprenant une surface recouverte d'un agent épilame et procédé d'épilamage d'un tel substrat.
摘要 L’invention se rapporte à un substrat comprenant une surface dont au moins une partie est recouverte d’un agent épilame comprenant au moins un composé sous la forme d’un copolymère statistique comprenant des unités M, des unités N et optionnellement au moins une unité P, associées par liaisons covalentes par leurs chaînes principales et réparties de manière aléatoire, où où R 1 , R 2 , R 3 , identiques ou différents, sont H, un groupe alkyle en C 1 –C 10 , alkényle en C 1 –C 10 Y, X, identiques ou différents, sont des bras espaceurs constitués d’un hétéroatome ou d’une chaîne hydrocarbonée pouvant contenir au moins un hétéroatome, comprenant au moins un atome de carbone A, identique ou différent, constitue un groupement d’ancrage au substrat, et est choisi parmi le groupe comprenant les thiols, thioethers, thioesters, sulfures, thioamides, silanols, alkoxysilanes, halogénures de silane, hydroxyles, phosphates, acides phosphoniques protégés ou non, phosphonates protégés ou non, aminés, ammoniums, hétérocycles azotés, acides carboxyliques, anhydrides, catéchol L, identique ou différent, est un groupement carboné en C 1 –C 20 halogéné, R 4 , identique ou différent, est H, CH 3 , une chaîne hydrocarbonée pouvant contenir au moins un hétéroatome, comprenant au moins 2 atomes de carbone. L’invention concerne également un procédé d’épilamage d’un tel substrat, ainsi qu’une pièce d’horlogerie ou de bijouterie comprenant un élément comportant un tel substrat.
申请公布号 CH710888(A2) 申请公布日期 2016.09.30
申请号 CH20150000380 申请日期 2015.03.18
申请人 The Swatch Group Research and Development Ltd 发明人 Christophe Letondor;Claire Rannoux
分类号 C10M145/06;B32B9/00;C10N30/06 主分类号 C10M145/06
代理机构 代理人
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