Preparation Method of ZnOS Thin Film Using Sputtering Deposition

摘要

본 발명은 Zn(O,S) 박막의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 최적의 스퍼터링 증착으로 광학적 특성과 구조적 특성이 우수한 고품질의 Zn(O,S) 박막을 핀홀 발생 없이 표면이 균일하게 대면적으로 제조할 수 있는 Zn(O,S) 박막의 제조방법 및 이로부터 제조된 Zn(O,S) 박막을 제공하는데 있다.