发明名称 |
一种QLED及其制备方法 |
摘要 |
本发明提供了一种QLED及其制备方法。所述QLED,包括依次层叠设置的衬底、底电极、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层、顶电极,还包括第一混合异质结层和/或第二混合异质结层,其中,所述第一混合异质结层由空穴传输材料和发光量子点混合制成,并设置在所述空穴传输层和所述量子点发光层之间;所述第二混合异质结层由电子传输材料和发光量子点混合制成,并设置在所述电子传输层和所述量子点发光层之间。 |
申请公布号 |
CN106098956A |
申请公布日期 |
2016.11.09 |
申请号 |
CN201610563128.8 |
申请日期 |
2016.07.14 |
申请人 |
TCL集团股份有限公司 |
发明人 |
钱磊;杨一行;曹蔚然;向超宇 |
分类号 |
H01L51/50(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/50(2006.01)I |
代理机构 |
深圳中一专利商标事务所 44237 |
代理人 |
张全文 |
主权项 |
一种QLED,包括依次层叠设置的衬底、底电极、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层、顶电极,其特征在于,还包括第一混合异质结层和/或第二混合异质结层,其中,所述第一混合异质结层由空穴传输材料和发光量子点混合制成,并设置在所述空穴传输层和所述量子点发光层之间;所述第二混合异质结层由电子传输材料和发光量子点混合制成,并设置在所述电子传输层和所述量子点发光层之间。 |
地址 |
516006 广东省惠州市仲恺高新技术开发区十九号小区 |