发明名称 一种QLED及其制备方法
摘要 本发明提供了一种QLED及其制备方法。所述QLED,包括依次层叠设置的衬底、底电极、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层、顶电极,还包括第一混合异质结层和/或第二混合异质结层,其中,所述第一混合异质结层由空穴传输材料和发光量子点混合制成,并设置在所述空穴传输层和所述量子点发光层之间;所述第二混合异质结层由电子传输材料和发光量子点混合制成,并设置在所述电子传输层和所述量子点发光层之间。
申请公布号 CN106098956A 申请公布日期 2016.11.09
申请号 CN201610563128.8 申请日期 2016.07.14
申请人 TCL集团股份有限公司 发明人 钱磊;杨一行;曹蔚然;向超宇
分类号 H01L51/50(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I 主分类号 H01L51/50(2006.01)I
代理机构 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人 张全文
主权项 一种QLED,包括依次层叠设置的衬底、底电极、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层、顶电极,其特征在于,还包括第一混合异质结层和/或第二混合异质结层,其中,所述第一混合异质结层由空穴传输材料和发光量子点混合制成,并设置在所述空穴传输层和所述量子点发光层之间;所述第二混合异质结层由电子传输材料和发光量子点混合制成,并设置在所述电子传输层和所述量子点发光层之间。
地址 516006 广东省惠州市仲恺高新技术开发区十九号小区