| 摘要 |
반도체 제조 공정의 공정 편차에 의해, 물리적으로 복제 불가능한 회로(Physically Unclonable Function; PUF)를 구현한 전자 장치가 제공된다. 본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 전자 장치는, 동일한 공정에서 단결정 실리콘 웨이퍼를 제외한 무기 또는 유기 재료 서브스트레이트, 이를테면 TFT가 집적되는 유리 재질의 디스플레이 패널 상에 생성되는 N 개의 단위 셀을 포함한다. 이 경우, 상기 N 개의 단위 셀의 각각은 비결정 실리콘(amorphous-Si), 다결정 실리콘(poly-Si), 산화 금속, 유기물 등으로 구성된 복수 개의 소자를 포함하고, 반도체 제조 공정의 공정 편차에 의해 생기는 상기 N 개의 단위 셀 각각에 포함된 복수 개의 소자들 간의 특성 차이를 이용하여, 상기 N 개의 단위 셀 각각으로부터 적어도 1비트의 디지털 값을 생성하여, 상기 전자 장치는 적어도 N 비트의 디지털 값을 생성한다. |
