发明名称 阴蔽罩之制造方法
摘要
申请公布号 TW045246 申请公布日期 1982.07.16
申请号 TW07110725 申请日期 1982.03.01
申请人 东芝股份有限公司 发明人 田中裕;冈辛一郎
分类号 H01J9/20 主分类号 H01J9/20
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 一种在将感光液涂抹于阴蔽罩素材后,经过第1烘乾制程,曝光制程,显像制程,第2烘乾制程,烧成制程,及腐蚀制程而穿设多个电子束通过孔之阴蔽罩制造方法中,于上述显像制程后用三氧化铬溶液或重铬酸盐进行硬膜处理制程,在水洗后进行乙醇取代制程,然后进行上述第2烘乾制程,烧成制程,及腐蚀制程,为特征之阴蔽罩之制造方法。
地址 日本国神奈川县川崎巿幸区堀川町72番地