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经营范围
发明名称
阴蔽罩之制造方法
摘要
申请公布号
TW045246
申请公布日期
1982.07.16
申请号
TW07110725
申请日期
1982.03.01
申请人
东芝股份有限公司
发明人
田中裕;冈辛一郎
分类号
H01J9/20
主分类号
H01J9/20
代理机构
代理人
林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项
一种在将感光液涂抹于阴蔽罩素材后,经过第1烘乾制程,曝光制程,显像制程,第2烘乾制程,烧成制程,及腐蚀制程而穿设多个电子束通过孔之阴蔽罩制造方法中,于上述显像制程后用三氧化铬溶液或重铬酸盐进行硬膜处理制程,在水洗后进行乙醇取代制程,然后进行上述第2烘乾制程,烧成制程,及腐蚀制程,为特征之阴蔽罩之制造方法。
地址
日本国神奈川县川崎巿幸区堀川町72番地
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