SELF-ALIGNED DOUBLE PATTERNING WITH SPATIAL ATOMIC LAYER DEPOSITION

摘要

피처 트리밍을 포함하는 자기-정렬 이중 패터닝 방법들이 제공된다. SADP 프로세스는 단일 배치 프로세싱 챔버에서 수행되고, 그러한 단일 배치 프로세싱 챔버에서, 기판은, 각각의 섹션이 독립적으로 프로세스 조건을 갖도록, 가스 커튼들에 의해 분리된, 프로세싱 챔버의 섹션들 사이에서 측방향으로 이동된다.