发明名称 在基板上均匀金属化的装置及方法
摘要 本发明揭露了在基板上均匀金属化的装置及方法。根据本发明的一实施例,提出的在基板上均匀金属化的装置包括:浸入式腔体、至少一组电极、基板固持装置、至少一个超声波或兆声波装置及反射板以及旋转驱动装置。浸入式腔体盛放至少一种金属盐电解液。至少一组电极与一个独立电源相连接。基板固持装置固持至少一块基板,并且该基板固持装置与基板可导电的一面电连接,基板可导电的一面面向一个电极。至少一个超声波或兆声波装置及反射板被平行地设置,以在浸入式腔体内形成超声波或兆声波驻波。旋转驱动装置带动基板固持装置绕着其轴线在驻波区域内旋转,以使在累积时间内,基板表面获得均匀的声能强度分布。
申请公布号 CN105986290A 申请公布日期 2016.10.05
申请号 CN201510086513.3 申请日期 2015.02.17
申请人 盛美半导体设备(上海)有限公司 发明人 王希;王晖
分类号 C25D5/20(2006.01)I;C25D17/00(2006.01)I 主分类号 C25D5/20(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 陆嘉
主权项 一种在基板上均匀金属化的装置,其特征在于,包括:浸入式腔体,盛放至少一种金属盐电解液;至少一组电极,与一个独立电源相连接;基板固持装置,固持至少一块基板,并且该基板固持装置与基板可导电的一面电连接,基板可导电的一面面向一个电极;至少一个超声波或兆声波装置及反射板被平行地设置,以在浸入式腔体内形成超声波或兆声波驻波;以及旋转驱动装置,带动基板固持装置绕着其轴线在驻波区域内旋转,以使在累积时间内,基板表面获得均匀的声能强度分布。
地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区蔡伦路1690号第4幢