发明名称 TRANSISTOR A EFFET DE CHAMP ET PROCEDE DE FABRICATION
摘要 <P>L'INVENTION CONCERNE LA TECHNOLOGIE DES SEMI-CONDUCTEURS.</P><P>UN TRANSISTOR A EFFET DE CHAMP MOS A STRUCTURE VERTICALE COMPREND NOTAMMENT UNE REGION DE DRAIN 12, UNE REGION DE CONDUCTIVITE OPPOSEE 13 FORMANT UNE JONCTION REDRESSEUSE 14 AVEC LA REGION DE DRAIN, UNE SOURCE EN METAL 17 EN CONTACT OHMIQUE AVEC LA REGION DE CONDUCTIVITE OPPOSEE, UNE COUCHE ISOLANTE 18 ET UNE ELECTRODE DE GRILLE 19 CAPABLE D'INDUIRE UN CANAL CONDUCTEUR DANS LA COUCHE SITUEE ENTRE LA SOURCE ET LE DRAIN.</P><P>APPLICATION AUX TRANSISTORS MOS DE PUISSANCE.</P>
申请公布号 FR2511194(A1) 申请公布日期 1983.02.11
申请号 FR19810017215 申请日期 1981.09.11
申请人 SILICONIX INC 发明人 THEODORE G. HOLLINGER
分类号 H01L29/423;H01L29/45;H01L29/78;(IPC1-7):H01L29/80;H01L21/28 主分类号 H01L29/423
代理机构 代理人
主权项
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