| 主权项 |
1.式I之新颖 衍生物或其盐特别是 其药物上接受之盐之制法 式中:R1 表一或4位次上经取代之 基或式R2-alk-X2- 之基, R2 表一或经酯化之羧基或表 一羟甲基, alk表低次烷基, X1 和X2 各表氧或硫, Ph表或被取代且被R1-C( =X1)-NH取代之l, 2一次苯基, X3 表氧、硫或表一或被取代 之亚胺基,及 R3 表或经氟取代之低烷基或 环烷基。 此法之特点在于 (a)使式II和III化合物或其盐在一种惰 性溶剂由于大约0-40℃下缩合 R1-Yl(II) 和 式中Y1 表氢及Y2 和Y3 合而表 示=C=X1 之基,或Y1 和Y2 两 基之一表式-C(=X1)-Y4 之基 其中Y4表一可被裂离之基者而另 一者和Y3 表氢,或若R1 表R2- alk-X2-之基,则Y1 表氰墓及 Y2 和Y3 表氢当Y4 表一易起反 应之酯化羟基时则需于一种硷性缩 合剂存在下行之;或当Y4 表一或 被醚化之巯基或醚化羟基时,则随 后蒸馏在反应中裂离之硫化氢、硫 醇或醇或 (b)在式Ⅳ化合物 式中R5表一可被转化成式R1-c (=X1)-之基之基者之内或在其 盐之内,将Y5 转化成式R1-C( =X1)-之基,或 (c)在一惰性溶剂由于大约0-130℃ 下将式V化合物 (V) (式中基Y11和Y12之一表式-C( =Y13)-R3 之基及另一表一可被 裂离之基和Y13表或被官能基改变 之氧基者)或其盐环化,当Y12表 醯基时,则需于一种酸性缩合剂存 在下行之或当X3-Y12表羟基或巯 基时,则需于一种硷性缩合剂存在 下行之若所属希,可将依本发明制 得之化合物转化成另一不同之式I 化合物及/或将依木发明制得之盐 转化成游离化合物或另一不同之盐 。2.依上述第1.项之制法,特点在于将在 本法任何阶段制得之中间化合物用为 始料至进行本法其余之步骤,或使始 料于反应条件下生成或以其成衍生物 形态(如盐)用之。3.依上述第1.和2.项之一之制法, 特点 在于使式Ⅱ和Ⅲ化合物其中Y1 表氢 及Y2 和Y3 合而表示=C=X1 之基 者或其盐彼此缩合,或在式Ⅳ其中R5 表示-C(=X1)-X2-alk-CH=O 或-C(=X1)-X2-Alk-CH2OH 者之化合物之内,将Y5 氧化成式 -C(=X1)-X2-alk-COOH 之R1 基。4.式I之新颖 衍生物或其盐特别是 药物上接受之盐之制法 式中:R1 表一或在4位次上经取代 之 基或式R2-alk- X2- 之基, R2 表一或经酯化之羧基或表 一羟甲基, alk表低次烷基或低亚烷基, X1 和X2 各表氧或硫, Ph表或被取代且被R1-C( =Xl)-NH取代之l, 2一次苯基, X2表氧、硫或表一或被取代 之亚胺基,及 X3 表或经氟取代之低烷基或 环烷基。 此法之特点在于 (a)使式Ⅱ和Ⅲ化合物或其盐彼此缩合 R1-Y1 (Ⅱ) 和 式中Y1 表氢及Y2 和Y3合而表 示=C=X1 之基,或Y1 和Y2 两 基之表示-C(=X1)-Y4 之基其 中Y4 表一可被裂离之基者而另一 者和Y3 表氢,或若R1 表R2- alk-X2-之基,则Y1表氰墓及 Y2 和Y3 表氢,或 (b)在式Ⅳ化合物 式中Y5 表一可被转化成式R1-C (=X1) -之基之基者之内或在 其盐之内,将Y5转化成式R1-C (=X1>-之基,或 (C)将式V化合物 (式中基Y11和Y12之一表式 -C(=Y13)-R3 之基及另一表可 被裂离之基和Y13表或被官能基改 变之氧基者)或其盐环化,若属所 希,可将依本发明制得之化合物转 化成另一不同之式I化合物及/或 将依木发明制得之盐转化成游离化 合物或另一不同之盐。5.依上述第4.项之制法,特 点在于将在 木法任何阶段制得之中间化合物用为 始料并进行本法其余之步骤,或使始 料于反应条件下生成或以其成衍生物 形态(如盐)用之。6.依上述第4.和5.项之一之制法, 特点 在于使式Ⅱ和Ⅲ化合物其中Y1 表氢 及Y2 和Y3合而表示=C=X1 之基 者或其盐彼此缩合,或在式Ⅳ其中 Y5 表示 -C(=X1)-X2-alk-CH=O或 -C(=X1)-X2-alk-CH2OH者之 化合物之内,将Y5 氧化成式-c( =X1)-X2-alk-COOH 之R1 基 。7.式I化合物或其盐特别是药物上接受 之盐依上述第4.-6.项之制法,其中 R1 于一方面表在4-位次上或被低 烷基取代之l- 基、羟基低烷基 其中羟基键连在高于-位次之位次 上、及/或氧撑或于另一方面表式R2 -alk-X2-之基其中R2 表或被低烷醇 酯化之羧基或表羟基甲基、alk表低 次烷基或低亚烷基及X2 表硫或氧及 其中X1 表硫基或氧基;Ph表除被 R1-C(=X1)-NH-基取代外或被 低烷基、低烷醯基及/或卤素取代之 1,2-次苯基;X3 表氧或硫或表 一或被低烷基、二低烷胺基一低烷基 或被苯基或苯基低烷基(各或被低烷 基、低烷氧基及/或卤素所取代)或 被低烯基、低烷醯基、低烷氧羰基、 取代之亚胺基;及R3表或被氟取代 之低烷基或3-8圜之环烷基。8.式I化合物或其盐特 别是药物上接受 之盐依上述第1.-3.项之制法,其中 R1 于一方面表在4-位次上或被低 烷基取代之l- 基、羟基低烷基 其中羟基键连在高于-位次之位次 上、及/或氧撑或于另一方面表式 R2-Alk-X2-基其中R2 表或被低 烷醇酯化之羧基或表羟基甲基、alk 表低次烷基或低亚烷基及X2 表硫或 氧,及其中X1 表硫基或氧基;Ph 表除被R1-C(=X1)-NH 之基取 代外或被低烷基、低烷醯基及/或卤 素取代之1,2-一次苯基;X3 表 氧、硫或表一或被低烷基、二低烷胺 基一低烷基或被苯基或苯基低烷基( 各或被低烷基、低烷氧基及/或卤素 所取代)或被低烯基、低烷醯基或低 烷氧羰基等取代之亚胺基;及R3 表 或被氟取代之低烷基或3-8圜之环 烷基。9.式Ia化合物或其盐特别是药物上接 受之盐依上述第4.-6.项之制法 式中: R4 表一或4位次上经取代之 基或式R2-Alk-X2 , R2 表一或经酯化之羧基或表一羟 甲基,alk表低次烷基或低亚 烷基,X2 表氧或硫, 及式中:R5表氢、具有达及包括4 个C原子之低烷基、具有达及包括4 个碳原子之低烷氧基、或具有原子序 达及包括35之卤素, X3'表氧、硫或表一被取代之亚胺 基,及 R6 表经氟取代己低烷基或环烷基 。10.式la化合物或其盐特别是药物上接 受之盐依上述第1.-3.项之制法 式中:R4在一方面表l- 基、 1-(4-低烷基) 基具有达及 包括4个C原子在低烷基部份者、l -(4-低烷基-4-氧撑) 基 具有达及包括4个碳原子于低烷基部 份者、或1-[4-(羟基一低烷基 )]一 基其中羟基键连在高于 -位次之位次上及羟基一低烷基具有 达及包括4个C原子者,或于另一方 面表式R7-Alk'-X2-之基,其中 R7 表羧基或低烷氧羰基具有总共达 及包括5个C原子者或表羟甲基; alk'表具有达及包括4个C原子之 低次烷基;和X2 表氧或硫。及式中 :R5 表氢、具有达及包括4个C原 子之低烷基、具有达及包括4个碳原 子之低烷氧基、或具有原子序达及包 括35之卤素。 X3'表氧、硫、亚胺基或具有达及 4个C原子之低烷胺基,及 R6 表具有达及包括4个C原子 之-支链低烷基或具有达及包括4 个C原子键连至第二个C原子之直链 低烷基。11.式Ia化合物或其盐特别是药物上接 受之盐依上述第10.项之制法,式中 R4 在一方面表具有达及包括4个C 原子在低烷基部份之1-(4-低烷 基) 基、具有达及包括4个C原 子在低烷基部份之1-(4-低烷基 -4-氧撑) 基或1-[4-( 羟基一低烷基)]一 基其中羟基 键连在高于-位次上及羟基一低烷 基具有达及包括4个C原子者,或在 另一方面表式R7-alk'-X2-其中 R7 表具有总共达及包括5个C原子 之羧基或低烷氧羰基、alk'表具有 达及包括4个C原子之低次烷基、及 X2 表硫与式中R5 表氢、具有达及 包括4个C原子之低烷基、具有达及 包括4个C原子之低烷氧基、或具有 原子序达及包括35之卤素;X3 表 硫与R6 表具有达及包括4个C原子 之支链低烷基或具有达及包括4个 C原子键连于第二C原子之直链烷基 。12.式la化合物或其盐特别是乐物上接 受之盐依上述第9.项之制法,式中R4 在一方面表具有达及包括4个C原子 在低烷基部份之1-(4-低烷基) 一 基而于另一方面表具有达及包 括4个C原子在低烷基部份之一羧 基一低烷硫基及式中R5表氢、各具 有达及包括4个C原子之低烷氧基或 低烷基、X3'表硫与R6 表具有达及 包括4个C原子之-支链低烷基。13.式Ia化合物或 其盐特别是药物上接 受之盐依上述第10.项之制法,式中R4 在一方面表具有达及包括4个C原子 于低烷基部份之1-(4-低烷基) 基或于另一方面表具有达及包括 4个C原子于低烷基部份之一羧基 一低烷硫基,及式中R5 表具有达及 包括4个C原子之低烷氧基、X3'表 硫与R6 表具有达及包括4个C原子 之一支链低烷。14.如请求专利部份第10.项式Ia 化合物 之制法,其中R4 一方面系代表l- (4-甲基)-或1-(4-甲基- l-氧撑),或另一方面为1-(2 -酸基-乙基)- 醛,R5表示 氯,甲氧基,甲基,而R4 为l-( 4-甲基)或1-(2-酸乙基)- 醯,氢,X'为硫基及R6 系表 示第三丁基或其盐,尤其为可供药物 上接受之盐者。 |
