发明名称 SELF-ORGANIZING COMPOSITION FOR FORMING PATTERN METHOD FOR FORMING PATTERN BY SELF-ORGANIZATION OF BLOCK COPOLYMER USING SAME AND PATTERN
摘要 블록 코폴리머를 사용하는 자기조직화 리소그래피에 있어서, 미크로상 분리에 요하는 어닐링 시간을 현저하게 단축하여 패턴형성의 스루풋을 향상시킬 수 있는 패턴형성용 자기조직화 조성물, 상기 조성물을 사용한 블록 코폴리머의 자기조직화에 의한 패턴형성방법 및 패턴을 제공한다. 하기 일반식(1)으로 표시되는 반복단위를 갖는 블록을 함유하는 블록 코폴리머와 유기용제를 함유하는 패턴형성용 자기조직화 조성물.상기 일반식(1) 중, X는 알킬기 또는 시클로알킬기를 나타낸다. n은 1∼5의 정수를 나타내고, n이 2 이상일 경우, X는 같거나 달라도 좋다.
申请公布号 KR101673326(B1) 申请公布日期 2016.11.07
申请号 KR20157007028 申请日期 2013.09.25
申请人 후지필름 가부시키가이샤 发明人 미즈타니 카즈요시;야마나카 츠카사
分类号 C08F293/00;B05D1/00;B05D3/02;B05D3/10;C08L53/00;C09D153/00;G03F7/00;H01L21/027 主分类号 C08F293/00
代理机构 代理人
主权项
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