| 主权项 |
1.由一种气体混合物移除二氧化碳及可能存在之硫化氢之方法,其特点为:(a) 使气体混合物在自20℃至80℃范围之温度,及5至100巴范围之压力下于一含有15至80个接触层之区域内与一溶剂逆流接触此溶剂含有自10至60重量百分率范围之脂族叔胺( 其每分子含有至少一个烃烷基 ),15至55重量百分率范围之四氢 吩1,1-二氧化物或经取代之四氢 吩1,1-二氧化物及自5至35重量百分率范围之水;(b) 藉释压至一压力而使所获得之负载溶剂急骤蒸发至少一次,此压力系高于在当时温度下该负载溶剂中二氧化碳和可能存在之硫化氢之总分压;(c) 使步骤(b)中所获得之负载溶剂藉释压而急骤蒸发至少一次( 其压力系达至少大气压之压力且低于在当时温度下该负载溶剂中存在之二氧化碳和硫化氢之总分压 );并将在步骤(c)中所获得之半贫溶剂随意愿在高于步骤(c)中所用但低于160℃之温度下全部或部份完全再生后于步骤(a)中作为溶剂。2.根据上述请求专利部份第1.项之一种方法,其特点为:该叔胺是甲基二乙醇胺。3.根据上述请求专利部份第2.项之一种方法,其特点为:该溶剂含有-甲基一乙醇胺,四氢 吩1,1-二氧化物和水。4.根据上述请求专利部份第3.项之一种方法,其特点为:步骤(a)系在自二○至一○○巴之范围内的压力下予以实施。5.根据上述请求专利部份第4.项之一种方法,其特点为:步骤(c)中所获得之半贫溶剂,在被使用于步骤(a)中作为溶剂以前用蒸汽汽提而再生。6.根据上述请求专利部份第4.项之一种方法,其特点为:该气体混合物大体上不含硫化氢以及在步骤(c)中所获得之半贫溶剂被使用于步骤(a)中作为唯一溶剂。7.根据上述请求专利部份第1.项之一种方法,如参照实例1及2在上文中所叙述者。 |
