| 摘要 |
본 발명은 기판 상에 은나노와이어를 포함하는 전극을 제조하는 단계(제1단계); 고분자층이 형성된 이형필름을 제조하는 단계(제2단계); 상기 전극과 이형필름을 압착하여 전극을 이형필름에 전사하는 단계(제3단계); 및 상기 이형필름에서 전극의 기판을 분리하여 투명전극을 회수하는 단계(제4단계)를 포함하는 은나노와이어 전극 제조방법을 제공한다. 따라서 은나노와이어를 이용하여 전극의 표면에 거칠기를 감소시켜 평탄화된 은나노와이어 전극을 제조할 수 있다. 상기 은나노와이어 전극은 표면이 평탄화되어 투명전극이 적층되는 두께를 조절할 수 있으며, 더욱 얇아진 두께는 전극의 물성을 향상시킬 수 있다. 또한 은나노와이어가 전사된 고분자층을 포함하는 이형필름은 은나노와이어와 접착력이 매우 우수하여, 낮은 온도와 압력에서도 전사가 가능하여, 차세대 플렉시블(flexible) 전극 개발에서 추구하고 있는 롤투롤(roll-to-roll; R2R) 연속 공정에 적합하다. |
