发明名称 杂环化合物之制法
摘要
申请公布号 TW054669 申请公布日期 1983.11.16
申请号 TW07012391 申请日期 1981.08.11
申请人 格拉斯哥集团有限公司 发明人 伊安 哈罗得 柯狄斯;柯林 弗烈 里克 韦柏;密契尔 丹尼斯 陶勒 等5人;凯斯 密勒斯
分类号 A61K31/40;C07D209/14 主分类号 A61K31/40
代理机构 代理人 陈世雄 台北巿大安区一○六六一敦化南路六九五号八楼
主权项 1.如下式(Ⅰ)化合物或其生理学上容许 盐,媒合物或生物前质之制法 式中 R1为C1-C3烷基,它可被氟取代 ,C5-C6环烷基,苯基及苯基 (C1-C2)烷基; R2,R3,及R4为氢或甲基; R5为氢,C1-C2烷基,C3-C4 烯基或苯基(C1-C4)烷基; 或 R4与R5及连结之氮原子,形成饱 和的5至7节环; R6及R7为氢; AIK为含2个碳原子之烷撑,它可含 不超过二个甲基之取代基或不破 取代; 此包括: (A)令如下式(Ⅱ)化合物或其盐或被 保护衍生物 式中R2,R3,R4,R5,R6 ,R7及AIK同式(Ⅰ)规定,与呈 式R1SO3H 之酸或其相对应碳醯化 剂或其盐反应; (B)环化如下式(1V)化合物 式中Q为-NR4R5或其被保护衍生 基或离基, R1,R2,R3,R4,R5 ,R6,R7及AIK同式(I) 之规定、 (C)令如下式(Ⅵ)化合物 式中 R1,R2,R,R3,R6,R7 及AIK同式(I)规定, Y为即可取代基或其被保护衍生 基,与呈式R4R5NH 之化合 物反应,但R4及R5同式( Ⅰ)之规定, (D)令如下式(Ⅶ)化合物或其盐 或被保护衍生物还原 式中W为可还原成所望ALKNR4R5 基之基或其被保护衍生基, R1,R2,R3,R4,R5 ,R6,R7及ALK同式( Ⅰ)之规定, 必要时及/或需要时,将所得化合物 予以一种以上如下反应(E) (i) 将所得化合物(I)或其盐或被保 护衍生物转变成另一种化合物( Ⅰ),及/或 (ii) 去除任何保护基或基,及/或 (iii)将化合物(I)或其盐转变成其生 理学上容许盐,媒合物或生物前 质。2.依请求专利部份第1.项之制法,式( I)中R1为C1-3烷基。3.依请求专利部份第1.项之制法, 式( I)中R2为氢或甲基,R3为氢。4.依请求专利部份第1. 项之制法,式( I)中ALK为C2不饱和烷挺。5.依请求专利部份第1.项 之制法,式( I )中R4及R5可相同或相异,各 为氢,甲基或乙基。6.依请求专利部份第1.项之制 法,其中 所制造之化合物呈式(Ia),或其生 理学上容许盐,媒合物或生物前质: 式R1a中C1-3为烷基或三氟甲基, R2a为氢或甲某, R4a及R5可相同或相异,各为氯,甲 基或乙积。7.依请求专利部份第1.项之制法,其中 所制造之化合物呈式(Ⅰb),或其生 理学上容许盐,媒合物或生物前质: 式中R1b为C1-3烷基, R4b及R5b可相同或相异,各为 氢,甲基或乙基,而R4b与 R5b之总含碳数不超过2。8.依请求专利部份第1.项 之制法,其中 所制造之化合物乃选自N-[[3- (2-N-甲胺乙基)-lH- -5-基]甲基]甲磺醯胺,N-[ [ 3-[2-(二甲胺基)乙基-1 H- -5-基]甲基甲磺醯胺及 其生理学上容许盐,媒合物及生物前 质。9.依请求专利部份第1.项之制法,其中 反应(A)乃在硷之存在下于-5至+50 ℃进行。10.依请求专利部份第1.项之制法,其中 环化反应(B)乃令如下式(Ⅳ)化合物 式中R1,R2,R3及R7同式(Ⅰ) 之规定, 与如下式(Ⅴ)化合物或其盐或被保 护衍生物反应, R6COCH2AIKQ (Ⅴ) 式中R6及AIK同式(I)之规定,Q同 式(Ⅲ)之规定。11.依请求专利部份第1.或10.项之制 法, 其中环化反应(B)乃在50至125℃进 行,若Q为NR4R5,或其被保护衍生 基,反应在酸触媒之存在下于含水反 应介质中进行;若Q为离基,则反应 在无矿物酸之含水惰性有机溶剂中进 行。12.依请求专利部份第1.项之制法,其中 反应(C)在20至50℃惰性有机溶剂 中进行。13.依请求专利部份第1.项之制法,其中 反应(D)包括: (i)用金属氢化物或用氢之触媒还原 化合物(Ⅵ),式中W为CHR9CK ,CHR8CHR9NO2,CH= CR9NO2或CHR8CR9=NOR ;或 (ii)在呈式HNR4R5之胺之存在下用 氢触媒还原化合物(Ⅶ) ,式中 W为CHR9CN;或 (iii)用金属氢化物还原化合物(Ⅶ) ,式中W为-COCONR4R5, CHR9CONR4R5或AlkNR4COR5 或 (iv)用硷金属氢硼化物在溶剂中加热 来还原化合物(Ⅶ),式中W为 COCHR9Z;或 (v) 用氢触媒还原化合物(Ⅶ),式中 W为AlkN3,或CH(OH)CHR9N R4R5; 但R8及R9可相同或相异,各为氢 或C1-3烷基,Z为叠氮基N3或 NR4R5,或其被保护衍生基,R4 ,R5,Alk同式(I)之规定。14.依请求专利部份第1.项之 制法,其中 反应(E.i)为制造R4及 不为氢之化合物(Ⅰ),此乃将R4及 /或R4,为氢之相对应化合物(Ⅰ)用 适当醛或酮及适当还原剂予以还原烷 化来制造。15.依请求专利部份第1.项之制法,乃将 该化合物以其盐酸盐,氢溴酸盐,硫 酸盐,顺丁烯二酸盐,反丁烯二酸盐 或肌 硫酸盐加成物之型回收。
地址 英国