发明名称 LIQUID PROCESSING METHOD LIQUID PROCESSING APPARATUS AND STORAGE MEDIUM
摘要 본 발명은, 기판의 표면에 형성된 오목부의 내부를 약액에 의해 처리하는 데 있어서, 오목부 내부에 신속하게 약액을 침입시키는 것을 목적으로 한다. 액 처리 방법은, 약액보다 표면 장력이 작은 유기 용제를 기판에 공급하여 오목부의 내부를 적시는 프리웨트 공정과, 그 후, 약액을 포함하는 세정액을 기판에 공급하여, 오목부 내부의 액체를 약액으로 치환하여, 이 약액에 의해 상기 오목부의 내부를 세정하는 약액 세정 공정을 포함하고 있다.
申请公布号 KR101678248(B1) 申请公布日期 2016.11.21
申请号 KR20120038520 申请日期 2012.04.13
申请人 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 发明人 세키구치 겐지;후지이 야스시;사카자키 데츠야
分类号 H01L21/02;C11D7/50;C11D11/00;H01L21/67;H01L21/768 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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