发明名称 | 用于碳注入的氢助气 | ||
摘要 | 提供的是用于增加离子注入器中的离子源寿命的系统、设备和方法。通过采用氢助气控制由含碳和氧的源气导致的离子源氧化和离子源室中毒,所述氢助气与自由氧原子反应以形成氢氧化物和水。 | ||
申请公布号 | CN103229271B | 申请公布日期 | 2016.12.14 |
申请号 | CN201180055586.6 | 申请日期 | 2011.11.17 |
申请人 | 艾克塞利斯科技公司 | 发明人 | 奈尔·卡尔文;谢泽仁 |
分类号 | H01J37/317(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/317(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王旭 |
主权项 | 一种用于改善束电流的离子注入系统,所述离子注入系统包括:离子源组件,所述离子源组件包括含碳源气和相关的气流控制器、氢助气和相关的气流控制器以及离子源室;束线组件,所述束线组件从所述离子源接收离子束并且处理所述离子束;以及标靶位置,所述标靶位置从所述束线组件接收所述离子束;其中,来自所述氢助气的氢离子与来自所述源气的氧原子反应,以减少室中毒并增加离子源寿命,并且其中所述离子注入系统进一步包括真空泵系统,以从所述离子源室移除水分子和氢氧化物,并且其中所述离子注入系统还包括用于通过在离子注入器的操作过程中的束组成的分析决定引入所述离子源室的助气的量的工具。 | ||
地址 | 美国马萨诸塞州 |