发明名称 辐射性萒染金属之除染方法
摘要
申请公布号 TW064430 申请公布日期 1985.01.16
申请号 TW073100529 申请日期 1984.02.14
申请人 日立制作所股份有限公司 发明人
分类号 G21F9/00 主分类号 G21F9/00
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1.一种辐射性污染金属之除染方法,系在于电解除染表面被辐射性物质污染之金属的方法中,使用中性盐之水溶液为电解液,经由交替电解除染对象金属以除去被辐射能污染之氧化被膜层及金属表面为特征。2.上述交替电解中系使阴极电解时间为阳极电解时间之2-10倍为特征之如请求专利部份第1项所记载之辐射性污染金属之除染方法。3.中性盐系选自盐酸盐,硫酸盐,硝酸盐及磷酸盐所成群中之一种或二种以上之盐为特征之如请求专利部份第1项所记载之辐射性污染金属之除染方法。4.一种如请求专利部份第1项所记较之辐射性污染金属之除染方法,系在电解除染表面被辐射性物质污染之金属的方法中,使用中性盐之水溶液为电解液:藉由交替电解除染对象金属,以除去被辐射能污染之氧化被膜层及金属表面,继而分离电解液中所含有之除染残渣,加入固化材料于此残渣中使之固化为特征。5.上述交替电解中,以使阴极电解为阳极电解时间之2-10倍为特征之如请求专利部份第4项所记载之辐射性污染金属之除染方法。6.中性盐系为选自盐酸盐,硫酸盐,硝酸盐及磷酸盐所成群中之一种或二种以上之盐为特征之如请求专利部份第4项所记载之辐射性污染金属之除染方法。7.在上述分离,固化除染残渣中系以脱水浓缩除染残渣后,与水玻璃混合使之固化为特征之如请求专利部份第4项所记载之辐射性污染金属之除染方法。8.在上述脱水浓缩除染残渣中,系以使用离心分离法为特征之如请求专利部份第7项所记载之辐射性污染金属之除染方法。
地址 日本