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发明名称 HEAT TREATMENT PROCESS AND APPLICABLE SUPPORTER OF SEMICONDUCTOR WAFER
摘要
申请公布号 JPS6127626(A) 申请公布日期 1986.02.07
申请号 JP19840149039 申请日期 1984.07.18
申请人 DEISUKO SAIYAA JAPAN:KK 发明人 HERUMUUTO SAIYAA
分类号 H01L21/22 主分类号 H01L21/22
代理机构 代理人
主权项
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