发明名称 SUBSTRATE CLEANING METHOD AND SUBSTRATE CLEANING APPARATUS
摘要 [과제] 표면에 미세 패턴을 가지는 기판의 이면을 초음파 세정할 때, 기판의 이면에 직접 초음파를 인가한 액체를 공급하는 방식으로는, 기판의 이면에 있어서의 노즐 배치의 자유도가 낮기 때문에, 이면 전면의 양호한 세정이 어려웠다. [해결 수단] 기판 표면으로부터 초음파를 인가한 액체를 공급함과 더불어, 기판 이면에는 액막을 형성시킨다. 기판을 통해, 초음파가 공급되는 표면으로부터 초음파를 이면에 전파시킴으로써, 이면의 초음파 세정을 실행한다. 표면에 공급하는 액체에는 탈기 처리를 실시함으로써, 패턴 도괴를 방지한다. 또, 이면에 공급하는 액체는 용존 가스 농도를 높임으로써 세정력을 향상시킨다. 표면 노즐이 기판 표면을 스캔함으로써, 전파에 수반하는 초음파의 감쇠에 의한, 노즐 원방에서의 낮은 세정력을 보상할 수 있고, 이면 전면을 양호하게 세정할 수 있다.
申请公布号 KR101677839(B1) 申请公布日期 2016.11.18
申请号 KR20150047327 申请日期 2015.04.03
申请人 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 发明人 하나와 요스케;미야 가츠히코;사사키 유타
分类号 H01L21/02 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
地址