METHODS OF FORMING PATTERNS USING PHOTORESIST

摘要

패턴 형성 방법에 있어서, 식각 대상막 상에 순차적으로 하부 코팅막 및 포토레지스트 막을 형성한다. 노광 공정을 통해 포토레지스트 막을 노광부 및 비노광부로 구분시킨다. 노광부와 중첩되는 하부 코팅막 부분의 적어도 일부를 노광부와 동일 타입의 극성을 갖는 극성 변환부로 변환시킨다. 포토레지스트 막의 비노광부를 선택적으로 제거한다. 극성 변환부에 의해 노광부의 구조적 안정성이 강화될 수 있다.